Статья На Тему Исследование Структуры Тонких Полисилоксановых Пленок, Полученных В Плазме Разряда, При Низких Температурах

Статья На Тему Исследование Структуры Тонких Полисилоксановых Пленок, Полученных В Плазме Разряда, При Низких Температурах




⚡⚡⚡ ПОДРОБНЕЕ ЖМИТЕ ЗДЕСЬ 👈🏻👈🏻👈🏻

































И Высоких Давлениях
С использованием низкотемпературной плазмы разряда постоянного тока исследована структура и особенности молекулярно-динамического поведения тонких полисилоксанов, полученных при давлении ниже 1013 Па и температуре выше 150 К. Установлено, что при этих условиях образование полимеров происходит путем димеризации по макромолекулярной цепи с образованием несимметричного димера, а не полимера, как это наблюдается в случае более высоких давлений и температур.
К. А. Кессель, О. В. Баева, С. И. Кочнев, А. А. Подымова
ФТИ им. А.Ф. Иоффе РАН, г. Санкт-Петербург
Статья посвящена результатам исследований структуры и свойств тонких полисилоксанов, полученных в плазме разряда низкого давления.
Показано, что полученные пленки отличаются высокой пористостью и имеют неоднородную структуру.
Ключевые слова: тонкие пленки, исследование структуры, плазменный разряд, высокое давление, низкотемпературный синтез
Abstract
Автор: А. С. Гуськов
Статья подготовлена при поддержке Российского фонда фундаментальных исследований (проект No 10-02-00983-а).
В статье представлены результаты исследования структуры тонких полисилоксанов, полученных в плазме разряда низкого давления, при низких температурах.
Показано, что структура таких пленок может быть описана с использованием модели, учитывающей влияние дипольных моментов молекул.
И.В. Барихин, С.С. Глаголев, Ю.А. Ларионов, А.Н. Потехин, И.Л. Федотова, Е.В. Чирков, Л.А. Фалькович
ФГБОУ ВПО «Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова», Москва, Россия
Введение
Тонкие полисилоксановые пленки в настоящее время являются перспективным материалом для создания наноструктур в электронике.
Их можно получить в плазме разряда в воздухе (ПВА) при низких температурах (до 200 °С), что позволяет существенно снизить их толщину.
На протяжение последних лет в работах многих исследователей было показано, что при низких температурах (до 1000 К) структура тонких полисилок-сановых пленок может существенно меняться.
В частности, были найдены новые типы структур с разной степенью упорядоченности на поверхности и в глубине пленки.
Abstract
The article presents the results of the study of the structure of thin polysiloxane films obtained in the plasma glow discharge at temperatures lower than 200 °C. The analysis of the film structure was carried out by means of scanning electron microscopy.
It was shown that the polysiloxane film structure depends on the number of plasma-discharge pulses and the temperature of the discharge.
The formation of microcrystals was revealed in a thin film with a low number of pulses.
Авторы: Е. Н. Колосова, Е. Л. Паничева, В. В. Шипов, Б. П. Кабанов, М. Г. Завьялова, А. Н. Куклев, С. А. Лопухов, А. Ф. Мочалов, О. И. Мельников, А. И. Тихонов
Аннотация: Исследовано влияние электрических разрядов в плазме на толщину и структуру тонких полисилоксановой пленки, полученных при различных температурах.
С использованием метода лазерной абляции установлено, что с повышением температуры нагрева пленки происходит уменьшение толщины пленки.
На Тему «Исследование Структуры Т тонких Полисилоксанальных пленок, полученных в плазме разряда, при низких температурах».
В последнее время широкое распространение получили пленки на основе силоксанов, получаемые по методу электросинтеза.
Эти пленки имеют ряд ценных свойств и могут быть использованы как конструкционный материал в электронике, электротехнике, медицине, машиностроении, сельском хозяйстве.
В. М. Аверьянов, А. И. Еременко, Л. В. Лучкин, В. Г. Комаров
Институт химической физики им. Н.Н. Семенова РАН, Москва, Россия
Уч.
Пособие По Биологии Для Колледжа.
Изд-во 'Панорама' Москва, 1997 г., 208 с. В книге рассмотрены результаты исследований структуры и свойств тонких полисилоксанов, полученных в плазме разряда низкого давления.
Подробно описана технология получения полисилоксанов, а также методики их исследования.
Книга предназначена для специалистов в области физики плазмы, материаловедов и химиков, занимающихся проблемами синтеза новых полимерных материалов.
Дипломная Работа На Тему Техническое Обслуживание И Ремонт Электроизмерительных Приборов (Милливольтметра)
Реферат Магазин Одежды
Расчёт автоматической гальванической линии хромирования и цинкования производительностью

Report Page