Катодолюминесцентный индикатор. Курсовая работа (т). Информатика, ВТ, телекоммуникации.
🛑 👉🏻👉🏻👉🏻 ИНФОРМАЦИЯ ДОСТУПНА ЗДЕСЬ ЖМИТЕ 👈🏻👈🏻👈🏻
Вы можете узнать стоимость помощи в написании студенческой работы.
Помощь в написании работы, которую точно примут!
Похожие работы на - Катодолюминесцентный индикатор
Скачать Скачать документ
Информация о работе Информация о работе
Нужна качественная работа без плагиата?
Не нашел материал для своей работы?
Поможем написать качественную работу Без плагиата!
Спроектировать технологический процесс изготовления
катодо-люминисцентного индикатора ИВ-2 и ИВ-3.
1. Найти внешний вид и конструкцию прибора. Понять принцип действия
прибора.
. Составить технологическую цепочку изготовления прибора
. Определиться со способом проведения каждой операции
(технологический режим, химические среды, время обработки, температуры и т.д.)
. Определить возможные браки на каждой операции(исправимый,
неисправимый, где исправляется?)
. Получить у преподавателя данные для материального расчета.
. Выполнить материальные расчеты деталей и заготовок прибора.
. Составить ведомость технического оборудования. Вид этой
ведомости.
Вакуумные индикаторные люминесцентные лампы ИВ-2 и ИВ-3:
Предназначены для визуального отображения арабских цифр 0 - 9 и запятой.
Состоят из десяти анодов, покрытых люминофором и расположенных в одной
плоскости. Цвет свечения - зеленый. Катод - прямого накала, оксидный. Оформлена
в стеклянный сверхминиатюрный баллон, индикация - через боковую поверхность.
Конструкция прибора Внешний
вид ИВ -2.
Конструкция прибора Внешний
вид ИВ -3.
3, 6, 13 4, 12 3, 10, 11,
13 6, 10, 11, 13 2, 4, 12 2, 6, 11, 13 3, 6, 10, 13 4, 10, 11 2, 3, 6, 10 2,
4, 10, 11 9
2, 3, 5, 9, 10, 13 5, 9, 11
3, 4, 10, 11, 13 3, 5, 9, 10, 12 5, 9, 12, 13 3, 5, 10, 12, 13 2, 3, 5, 10 4,
10, 11 2, 3, 5, 9, 10 3, 5, 9, 10, 12, 13 6
Подключение выводов для формирования цифр и знаков
катодолюминесцентный индикаторный лампа
ИВ - 2 Вибрационные
нагрузки: диапазон частот, Гц ∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙ 1
- 60 ускорение, м/с 2 (g), не более ∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙ 19,6
(2) Температура окружающей среды, 0 С∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙
-45, +75 Отн-я влажность воздуха при Т=+25 0 С, %, не более ∙∙∙∙∙∙98
ИВ - 3 Вибрационные
нагрузки: диапазон частот, Гц ∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙ 1
- 80 ускорение, м/с 2 (g), не более ∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙ 49
(5) Температура окружающей среды, 0 С∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙∙
-45, +70 Отн-я влажность воздуха при Т=+35 0 С, %, не более ∙∙∙∙∙∙98
ИВ - 2 Индикатор может быть использован для отображения
специфических знаков, а также помехоустойчивых цифр с непривычным
начертанием.
ИВ - 3 Индикатора ИВ-3А рекомендуется применять в
аппаратуре, где критичным является требование снижения энергопотребления, но
при этом следует помнить, что минимальная наработка индикатора в 1,5 раза
меньше наработки индикатора ИВ-3.
Высушивания люминофорной пасты производится в атмосфере при комнатной
температуре.
В качестве колибровки по диаметру я выбрал метод Волочение. Метод
заключается в том, что процесс деформации металла путем протягивания проволоки
под действием внешней силы через отверстие, сечение которого меньше
первоначального сечения заготовки. Проволоку нагревают, смазывают, конец
заостряют для уменьшения трения и протягивают через фильеру. Колибровка
обеспечивает равномерность диаметра по длине проволоки и следовательно,
постоянство тока накала и температуру катода.
При термической обработке проволоки, применяется метод отжига в среде
влажного водорода. При отжиге во влажном водороде происходят те же
физико-химические процессы (удаление вакансий, рекристаллизация ), что и при
отжиге в любой среде, и дополнительно протекают окислительно-восстановительные
процессы на поверхности и в толще проволоки.
В отличие от других газов и паров водород имеет очень высокий коэффициент
диффузии: по этому, после обработки, оставшиеся водород легко удаляется из
деталей в процессе их обезгаживания при вакуумной обработке прибора.
Очищаемую проволоку присоединяют к катоду, которая погружена а в ванну с
раствором. Для электрохимического обезжиривания обычно применяют растворы
едкого калия, соды, тринатрийфосфата и ПАВ.
В основе электрохимической очистки лежат процессы электролитической
диссоциации и электролиза.
В растворе кислоты и щелочи имеются положительные ионы водорода Н 1+
и отрицательные ионы гидрооксида ОН 1- , образовавшиеся в результате
диссоциации молекул воды. Под действием электрического поля в растворе кислоты
или щелочи протекает процесс электролиза. Положительные ионы водорода движутся
к катоду, превращаются на нем в нейтральные молекулы и выделяются в виде
пузырьков газообразного кислорода. Газообразные пузырьки водорода или кислорода
механически сбивают и удаляют загрязнения или оксиды, лежащие на поверхности
проволоки. Кроме того сам раствор, служащий электролитом, вступает в химические
реакции с загрязнениями ( как и при обычных способах обезжиривания и травления
) и удаляет их с поверхности проволоки. Затем проволоку промывают в проточной
воде и отправляют на след операции.
Эмитирующим веществом катодов являются оксиды щелочноземельных металлов и
чистый барий. Так как эти вещества обладают очень высокой химической
активностью, на атмосферном воздухе они крайне неустойчивы и вступают в
химическую взаимодействию с парами воды и углекислыми газом. По этому на керны
катодов наносят не оксиды а суспензию карбонатов щелочноземельных металлов.
Для изготовления карбонатного покрытия применяются твердые растворы
(смешанные кристаллы) карбонатов бария, стронция, и кальции.
Карбонаты стронция (SrCO 3 ) и кальция
(CaСO 3 ) при нагревании в вакууме легко разлагаются и образуют
тугоплавкие оксиды SrO и CaO, которые препятствуют спеканию
оксидного слоя, повышают пористость и шероховатость, снижают коэффициент
излучения и скорость испарения активного вещества катода. Это способствует
повышению его рабочей температуры.
Карбонаты щелочноземельных металлов получают путем смешивания раствора
азотно-кислых солей бария, стронция, кальция с раствором углекислого натрия или
аммония:
{Ba, Sr Ca} (NO 3 ) 2 + Na 2 CO 3
→ ↓ {Ba, Sr, Ca} CO 3 + 2NaNO 3 .
При низких температурах осаждения образуются мелкие кристаллы сферической
формы, а при высоких - крупные кристаллы игольчатой формы. Размер и форма
кристаллов карбонатов определяет плотность или шероховатость эмиссионного
покрытия. Кристаллы игольчатой формы обладают лучшими эмиссионными свойствами и
образуют шероховатое покрытие. Однако повышенная шероховатость может быть
причиной разрушения катодов вследствие возникновения высоких напряженностей
поля на выступающих остриях покрытия. Для гладких и плотных покрытий используют
мелкозернистые карбонаты со сферической структурой, дающие более плотную
упаковку. Гладкие оксидные покрытия используются в малошумящих лампах, приборах
СВЧ, в потенциалоскопах, высоковольтных ЭЛТ.
Так как у нас катод прямонакальный, оксидную покрытию наносим методом
катафореза. Этим методом получают карбонатные покрытия высокой плотности (до 3
г/см 3 ). В карбонатной суспензии на границе раздела карбонат - жидкая
фаза ( смесь растворителей) происходит частичное растворение карбонатов и
образование положительных ионов бария, стронция и кальция (Ba 2+ , Sr 2+ , Са 2+ ). Эти ионы адсорбируются на частицах
карбонатов, придают им положительный заряд и заставляют двигаться к
отрицательному электроду где подключена наша керн и осаждаются на него.
Методом катафореза можно получать плотные гладкие однородные покрытия.
Биндер служит не только связующим веществом но и стабилизатором катафорезной
суспензии, он способствует повышению механической прочности покрытия.
В виду того, что процесс катафореза сопровождается побочным процессом
электролиза, на катоде выделяется водород, в результате этого ухудшается
прочность сцепления карбонатного покрытия с поверхностью керна катода.
Уменьшить газовыделение можно путем импульсной подачи напряжения между катодом
и анодом с кратковременной переменно полярности. Частицы карбонатов в десятки
тысяч раз тяжелее отдельных ионов. При перемене на короткий промежуток времени
потенциала они не изменяют направления своего движение, в то время как
концентрация водорода у поверхности катода резко уменьшается. Для уменьшения интенсивности
вредного процесса электролиза следует применять высокоомные суспензии, имеющие
удельную электропроводность не более 10 -8 Ом -1 ∙ см -1 .
Нанесенную оксидную покрытию сушат в электрическом шкафу при 150 - 250 о С.
Во время сушки удаляется влага, легколетучие органические загрязнения, а также
происходить разложение образовавшихся при осаждении бикарбонатов:
Карбонаты, применяемые для изготовления плотных покрытий, дополнительно
прокаливают при 480 о С. Это предотвращает растрескивание покрытий в
процессе вакуумной обработки катода, вызываемое структурными изменениями и
усадкой непрокаленного карбоната в вакууме.
В основе метода фотохимической штамповки лежит известный метод
фотолитографии, которая основана на использовании необратимых фотохимических
явлений, происходящих в нанесенном на подложки слое фоторезиста при его
обработке ультрафиолетовым излучением через фотошаблон.
В настоящее время для нанесения фоторезиста наиболее широко применяется
метод центрифугирования, так как при сравнительно несложном оборудовании он
позволяет создавать слои с неравномерностью толщины по площади подложки в
пределах ±10%. Используем позитивный фоторезист марки ФП-9120-1. Предназначены для применения в
фотолитографических процессах контактного и проекционного экспонирования в
производстве интегральных схем, полупроводниковых приборов. Фоторезисты серии
ФП-9120 являются аналогами по применению фоторезистов ФП-383, ФП-10, ФП-051Ку,
Microposit S1813 G2. Возможен выпуск любой модификации, обеспечивающей толщину
пленок от 0,5 до 3,5 мкм и окрашенных форм ФП-9120-2-К, ФП-9120-Ш. Скорость
вращения 3000 об/мин, время вращения центрифуги 60 с.
Операцией, завершающей формирование слоя фоторезиста, является сушка.
Первоначальная сушка - отвердение пленки происходит непосредственно в процессе
ее нанесения. Для окончательного удаления
растворителя из слоя фоторезиста его просушивают. При этом уплотняется
молекулярная структура слоя, уменьшаются внутренние напряжения, и повышается
адгезия к подложке. Неполное удаление растворителя из слоя фоторезиста снижает
его кислотостойкость. Для удаления растворителя подложки нагревают до температуры,
примерно равной 97±3 °С в течение 40 мин. Используют конвекционную сушку.
Совмещение и экспонирование являются наиболее ответственными операциями
процесса фотолитографии. Точность полученного в процессе фотолитографии топологического
рисунка в первую очередь определяется прецизионностью процесса совмещения.
Передача изображения с фотошаблона на подложку должна выполняться с точностью
до десятых долей минимального размера элемента, поэтому процессы совмещения и
экспонирования проводят на одном рабочем месте одновременно на одной установке,
не допуская даже малой вибрации фотошаблона и подложки. Время совмещения и
экспонирования составляет 1-2 мин.
Проявление заключается в удалении в зависимости от использованного типа
фоторезиста экспонированных или неэкспонированных участков, в результате чего
на поверхности подложек остается защитный рельеф - фоторезистивная маска
требуемой конфигурации. Для проявления позитивных фоторезистов используют
слабые водные и водно-глицериновые растворы щелочей: 0.6 %-ный водный раствор
КОН. Время проявления 30-60 сек.
Задубливание осуществляют термическим способом. Задубливание при 120 0 С
в течение 20 мин.
Для травление Ni-листа
используем метод плазмохимического травления
Удаление защитного рельефа можно осуществить следующими способами:
механическим, химическим, термическим и плазменным. Способ удаления фоторезиста
должен обеспечивать не только быстрое и качественное удаление, но и не
оказывать влияния на размещенные тонкопленочные электроды. Пленка удаляется обработкой в нагретом до (60-80) °С,
N-диметилформамиде или в смеси его с 5% триэтаноламином.
Плоской ножной называется конструктивный элемент, через который
осуществляется электрическая связь внутренних электродов прибора с элементами
внешней электрической схемы.
Заготовками для штамповки плоских ножек является металлические вводы,
стеклянные бусы или кольца и стеклянный штеньгель.
Плоские ножки изготовляют на стационарных прессах или полуавтоматических
многопозиционных карусельных машинах. Во всех случаях заготовки загружают в
матрицу пресс-формы. Стекло нагревается пламенем горелки до пластического
состояния, затем его штампуют в закрытой пресс-форме, нижним формующим
инструментом которой является матрица, а верхним - пуансон ( при этом матрица и
пуансон синхронно вращаются вокруг своей оси).
Вырубка - операция получения плоских деталей отделением материала от
заготовки по замкнутому контуру.
Пробивка - операция получения различных по форме и размерам отверстий.
3.6 Изготовление стеклянного баллона индикатора
Механизированное изготовление стеклянных колб электровакуумных приборов
производится путем: выдуванием колб из жидкой стекломассы на специальных
высокопроизводительных колбовыдувных автоматах. Колбы, полученные этим методом подвергаются
в отдельных случаях ряду дополнительных операций. Колбы этого типа должны иметь
весьма точный размер по внутреннему диаметру. Это достигается их калибровкой. К
колбам после операции калибровки приваривается штенгель, через, который
впоследствии осуществляется откачка воздуха.
Автоматическое выдувание производится на колбовыдувном
автомате ВК- 24, представляющим собой вращающеюся карусель с 24- выдувными
трубками и вращающимися фирмами.
Всасывающая головка вакуумного питателя под действием вакуума отбирает
каплю стекла из стекловаренной печи. Излишек стекломассы обрезается ножом и
капле стекла придается форма баночки. Затем салазки вакуумного питателя
перемещаются по наклонной направляющей к колбовыдувной машине. При этом
всасывающая головка с набранной стекломассой- баночкой устанавливается над
мундштуком- формой одной из позиций автомата. В это время воздушно- вакуумный
клапан перекрывает линию вакуума и открывает доступ сжатого воздуха в наборную
головку. Сжатый воздух выталкивает стекломассу - баночку из наборной головки, и
она попадает в мундштук-форму. Поддув воздуха в мундштуки и вращение мундштуков
и карусели способствуют формованию изделия из стекломассы и приданию ей
требуемой формы
С целью обезжиривания стеклянный баллон опускаем в 5%-ный
водный раствор перекиси водорода (Н 2 О 2 ), добавив
достаточное количество аммиачного водного раствора (NH 4 OH), чтобы довести рН до
11.
Если на баллоне есть металлические налеты, то обрабатываем в
растворе муравьиной кислоты, пероксида водорода и аммиака в соотношении (1:1:1)
После обезжиривания деталь промываем в дистиллированной воде,
затем можем промыть в ацетоне для более быстрого высыхания.
Все детали лампы отправляются на сборку, после чего
происходит заварка ножки с колбой.
Анод, катод, экран крепятся на слюдяном изоляторе с помощью
ушек. Газопоглотитель крепится на наружной стороне экрана, методом точечной
сварки. Внутренняя арматура и выводы также крепятся с помощью точечной сварки и
проволоки.
Заваркой называется операция окончательной оболочки ЭВП перед
ее вакуумной обработкой. Заварка ножки - операция герметичного соединения
сборочной ножки с колбой. После заварки образуется оболочка электровакуумного
прибора, внутри которой находится арматура. В нашем случае используем заварку
газовым пламенем. Сначала размягчим стекло ножки и колбы в месте заварки. Колбу
обогреваем мягким газовым пламенем, затем жестким огнем газовоздушных или
газокислородных горелок. Под действием собственной массы и сил поверхностного
натяжения размягченный шов в течение секунд принимает требуемую форму. Качество
и форма шва сильно зависит от направления и интенсивности пламени горелки. В
процессе заварки жесткое газокислородные пламя должно быть направленно по
касательной к окружности ножки, тогда уменьшается вероятность перегрева и
окисления деталей арматуры прибора и предотвращается проникновение внутрь
прибора водяных паров, образующихся при сгорании газа. Детали арматуры не
должны соприкасаться с газовым пламенем.
Вакуумная обработка прибора служит для создания в приборе
высокого вакуума, обеспечения условий, исключающих ухудшение вакуума в процессе
хранения и эксплуатации прибора, и придания катоду способности эмитировать
электроны. На первом этапе вакуумной обработки происходит откачка атмосферного
воздуха из объема прибора и из вакуумной системы. На втором этапе вакуумной
обработки происходит обезгаживание оболочки, покрытий и арматуры прибора. На
третьем этапе вакуумной обработки продолжается удаление газов и паров из
деталей и объема прибора, снижается суммарное давление остаточных газов в
приборе.
Тренировкой называется заключительная технологическая операция
изготовления прибора, когда между электродами подают напряжения, обеспечивающие
улучшение и стабилизацию параметров, повышение надежности и долговечности
прибора.
Тренировка обычно состоит из нескольких этапов. Первый этап -
стабилизация параметров и характеристик прибора. Катод нагревают до температуры
на 10 - 20% выше рабочей температуры, а на электроды прибора подаются
экспериментально подобранные положительные относительно катода потенциалы. При
этом происходит интенсивный отбор с катода, вызывающий электронную
бомбардировку электродов прибора и их обезгаживание; диссоциацию и ионизацию
молекул остаточных газов быстролетящими электронами.
Процесс превращения нейтральных молекул остаточных газов в
ионы и диссоциированные атомы с последующим поглощением их газопоглотителем,
сопровождающийся улучшением вакуума в приборе, называется жестчением остаточных
газов. Жестчение остаточных газов приводит к повышению вакуума в приборе
практически на один два порядка.
Иногда применяют этап - активный прогон приборов при подаче на электроды
предельно допустимых рабочих напряжений. Это позволяет провести окончательную
стабилизацию параметров и характеристик приборов и отбраковать потенциально
ненадежные приборы.
Резка керамической подложки
на заготовку
Получение сегментов и
отверс-й для выводов
Приготовление карбонатной
суспензии
Химическая обработка
поверхности Ni листа
Резка металлического листа
на заготовки
Выдувание колб из жидкой
стекломассы
Обезгаж.обол. вн.покрытия
ме детали внутренней арматуры и газопогл.
6. Ведомость потребного технологического оборудования
Полностью автоматическая
установка скрайбирования и разделения DM-8150
Получение сегментов и
отверстий для выводов
Многоцелевой
вертикально-фрезерный обрабатывающий центр с ЧПУ YONGDA-3020
Очистка подложек/
химическая обработка проволоки/химическая очистка стеклянных колб
Установка химической
обработки «Лада-1»
Машина тонкого волочения
PRO20D/22D/24D
Установка сушки и
задубливания УСЗФ-153А
Нанесение токопроводящих
дорожек/люминофорного покрытия
Установка трафаретной
печати AurelС900
Установка заварки приборов
полуавтоматическая И4.022.0083
Пост откачной
высоковакуумный «Пост-2»
. Список используемого оборудования
7.1 Полностью автоматическая установка скрайбирования и
разделения DM -8150
Назначение: Установка предназначена для скрайбирования и разделения
различных подложек (пластины, керамика, чувствительные компоненты и т.д.) и
обладает высокой точностью, производительностью и повторяемостью. Установка
проста в использовании и обслуживании.
- скорость перемещения по
X-Y до 250 мм/сек., - производительность до 8 пластин в час,
- контроль усилия резки, -
линейные двигатели с энкодорами, - отсутствие сколов на поверхности при
обработке III-IV материалов, - гранитное основание, - запатентованный режущий
инструмент, - макс. размер пластин до 12” , - моторизованный фокус и увеличение,
- промышленный ПК, монитор, сенсорная панель, - дружественный интерфейс
пользователя, - 3D трекбол управления, - простота программирования,
- непрерывное
скрайбирование, - прерывистое, - скрайбирование по кромке и др.,
- материалы III-IV группы,
- кремниевые пластины, - керамика, - стекло,
- электропитание 220 В,
50-60 Гц, - вакуум 0,7 бар, 12 л/мин., - пневмопитание 6 бар, 25 л/мин., -
габаритные размеры 1200х1200х1560 мм, - вес 700 кг
Сменная производительность: 64 пластины
7.2 Многоцелевой вертикально-фрезерный обрабатывающий
центр с ЧПУ YONGDA -3020
Назначение: Многоцелевой вертикально-фрезерный станок с ЧПУ является
обрабатывающим центром. Благодаря наличию ЧПУ может обрабатывать такие
материалы, как мрамор, гранит, керамика, стекло, даже сталь.
Скорость вращения резца
шпинделя (об/мин)
Тип автоматической смены
инструмента
Автоматическая система
централизованной смазки
Нажатие кнопки с
электронным маховиком
.3 Установка химической обработки «Лада-1»
Назначение: Установка предназначена для химической обработки.
Особенности: Автоматическая дозированная подача реактивов в ванны из блока
химической подготовки растворов.
Групповая кассетная обработка пластин.
Химическая очистка и промывка пластин в автоматическом режиме.
Управление технологическим процессом от ЭВМ.
Контроль текущего состояния задаваемых технологических параметров.
Конструктивные материалы установки обеспечивают работу в помещениях
класса 10.
Станина установки выполнена из полипропилена, ванны и проточные части,
контактирующие с реагентами и деионизованной водой, выполнены из тефлона,
нагреватель имеет кварцевый корте.
Состав установки: Технологический модуль изменяемой конфигурации, содержащий
ванны для химической очистки, стоп-ванну, ванны финишной промывки.
Блок питания нагревателей химических ванн.
Количество одновременно
обрабатываемых пластин, шт
Диапазон регулирования
температуры реагентов в химической ванне, оС
Время быстрого слива из
стоп - ванны, с
Мощность нагревателей в
химических ваннах,кВт
Длительность 1 цикла обработки: 15 мин
Сменная производительность: 1600 шт
Назначение: обработка металлов давлением, при которой изделия (заготовки)
круглого или фасонного профиля (поперечного сечения) протягиваются через
отверстие, сечение которого меньше сечения заготовки. В результате поперечные
размеры изделия уменьшаются, а длина увеличивается.
Коэффициент проскальзывания
чистового бандажного ролика, %
3,7 кВт Трехфазный
индукторный двигатель
11кВт Трехфазный
индукторный двигатель
11кВт Трехфазный
индукторный двигатель
2,2кВт Трехфазный индукторный
двигатель
3,7 кВт Трехфазный
индукторный двигатель
3,7 кВт Трехфазный
индукторный двигатель
плоский ремень + привод
синхронизации
плоский ремень + привод
синхронизации
плоский ремень + привод
синхронизации
7.5 Установка заварки приборов полуавтоматическая
И4.022.0083
Назначение: Предназначена для заварки анодного и катодного торцевых узлов
с баллоном и тарелочкой капилляра излучателей HE-NEлазеров огнями
газокислородных горелок.
Размеры обрабатываемых
изделий, мм:
~380/220 В, газ, кислород,
азот, сжатый воздух
Назначение: полуавтоматическая напольная установка SEMI AUTO SPIN -5000A
предназначена для нанесения/ проявления фоторезиста.
Количество обрабатываемых
пластин, шт./ч
20 рецептов х 20 шагов
(цифровое программирование)
Анодированный алюминий
(точная полировка)
Сменная производительность: 1200 шт
7.7 Установка сушки и задубливания УСЗФ-153 A , НИИ полупроводникового
машиностроения, Россия
Назначение: сушка
резиста на шаблонных подложках после операции нанесения фоторезиста и
задубливания резиста после операции проявления
1. Обработка подложек по принципу «из кассеты в кассету»;
. Индивидуальная сушка и задубливание резиста на шаблонных подложках на
"горячей плите";
. Выгрузка подложек из кассеты, перенос в камеру, сушка (задубливание) и
загрузка обработанных подложек в приемную кассету осуществляется автоматически
по заданной программе, перед загрузкой в приемную кассету подложка охлаждается
газообразным азотом;
. Многоуровневая система управления установкой позволяет проводить
непрерывный мониторинг технологических параметров и осуществлять диагностику
механизмов и систем;
. Информация о режимах обработки (время, Т ° С) отображается на экране
дисплея;
. Возможно исполнение установки в упрощенном ручном варианте;
. Установка соответствует требованиям эксплуатации в помещениях класса
Р(10)100 («чистое помещение» класса 5 ИСО по ГОСТ Р ИСО 14644-1-2000).
Размер обрабатываемых
шаблонных подложек, мм
Диапазон задания
температуры сушки и задубливания, ° С
Равномерность распределения
температуры на плите, ° С
Точность поддержания
температуры на "горячей плите", ° С
Мощность потребляемая
установкой, кВт
Габаритные размеры
установки (LxBxH), мм
Сменная производительность сушки: 320 деталей
Производительность задубливания: 20 шт./ч
Сменная производительность задубливания: 160 деталей
7.8 Установка совмещения и экспонирования MDA -80 FA , Midas System Co ., Korea
Назначение: установка
предназначена для совмещения фотошаблона и экспонирования фоторезиста в
процессе фотолитографии.
УФ источник света с
мощностью 500 Вт с контролем интенсивности и мощности излучения.
Интенсивность излучения при
длине волны 365 нм
Максимальная 15-20 мВт/см2(i-line),
Максимальная 20-30 мВт/см2(g-, h-, и i-line)
Точности при
предварительном совмещении
Микроскоп двойного поля
(увеличение регулируется), CCD камера, монитор
Столик с моторизацией по
осям X,Y,Z Theta Модуль совмещения с возможностью перемещения по осям х,у,z
(по z ± 5 мм) и по углу θ (± 5°)
Компенсация ошибки клина
автоматическое определение края - датчик давления)
Мягкий контакт,
экспонирование с микрозазором (регулируемое 20 - 200 мкм с помощью системы на
базе ПО) , жесткий контакт
7.9 Установка плазмохимического травления Vision RIE , Advanced Vacuum , Sweden
Назначение: платформа позволяет проводить травление следующих
материалов:
· AlGaN/GaN, AlGaAs/GaAs, InGaAlP,
InAlAs, InGaAsP
· GaAs, GaSb, GaN, InSb, InP, Deep GaP,
ZnSe
· Ta2O5, Al2O3, Bi2Te3, ITO, LiNbO3,
PZT, GST, PbSe, SiC
· Al, Au, Cr, Cu, Mo, Ni, Nb, NiCr, Pt,
Ta, Ti
· BCB, Diamond, Polyimide, PMMA, PDMS,
PR
· Si (cryo etch, HBr etch, C4F8-SF6
etch)
· и других (по запросу).
Платформа Vision выполнена на базе современной концепции построения
технологического оборудования. В системе широко используются интерфейсы
DeviceNet и EtherNet, система управления реализована на базе промышленного
контроллера (PLC). Панель контроля позволяет управлять установкой по нажатию
одной кнопки для ранее заложенных процессов: загрузка/выгрузка пластины,
старт/стоп процесса, очистка камеры, откачка камеры и других. Четырехцветная
сигнальная башня служит для мониторинга статуса установки в производственном
помещении.
+5..+40С Другие варианты по
запросу
Механический с гелиевым
охлаждением. Электростатический по запросу
ТМН 450 л/с + фор-насос 100
м3/час Другие насосы по запросу
30х50,20х100,15х150,10х200
мм, возможность работы с осколками
Оптический спектрометр OES,
оптический интерферометр OEI или лазерный интерферометр LEI
730×930×1172
(2147) мм (газовый шкаф на каркасе)
Сменная производительность: 960 деталей
7.10 Малогабаритная установка плазмохимической очистки,
удаления фоторезиста и стерилизации МВУ ТМ ПЛАЗМА 04, ОАО НИИ ТМ, Россия
Назначение: удаление фоторезиста и очистка от оргнических примесей на
пластинах, а также стерилизация медицинских, в том числе термолабильных инструментов
и материалов.
Размер обрабатываемых
шаблонных подложек, мм
Продолжительность одного цикла обработки: 15 минут
7.11 Установка трафаретной печати Aurel C 900, Italy
Назначение :
Установка трафаретной печати модели Aurel C900 - высокоточный и надежный
полуавтоматический принтер, который не требует повторных регулировок в процессе
работы. Модель создана специально для производства толстопленочных гибридных
схем и работы с сырой LTCC/HTCC керамикой. Система машинного зрения позволяет
использовать в качестве реперной точки любую деталь заготовки (например,
отверстие) для обеспечения привязки слоя металлизации к геометрии каждого
изделия.
1. Цифровой контроль скорости и давления, раздельные индикаторы давления
левой и правой стороны ракеля для более точной регулировки
. Автоматический выдвижной стол, возможность установки сменных рабочих
столов (универсальных или заказных)
. Рабочий стол с точной настройкой по X-Y Тета для точного расположения
подложек.
. Фиксация подложек с использованием вакуума.
. Все перемещения производятся по линейным шаровым направляющим,
обеспечивая высокую точность.
. Высокоточная головка печати с микрометрической настройкой верхнего и
нижнего положения останова.
. Модуль заполнения переходных отверстий методом прососа
. Универсальный вакуумный рабочий стол из пористой стали
. Встроенные вакуумные насосы для сильного и слабого вакуума
. Возможность дооснащения до полностью автоматического варианта машинного
зрения с системой совмещения.
Производительность: 2600 (30*11 мм) шт./ч
7.12 Конвейерная печь вжигания BTU TFF II , BTU , USA
Назначение :
Печь серии FastFire применяется при производстве толстоплёночных ГИС, пассивных
компонентов, прецизионных резисторов, клемм и многих других изделий. Печи серии
FastFire являются
Курсовая работа (т). Информатика, ВТ, телекоммуникации.
Курсовая работа по теме Ассортимент и технология приготовления закусочных бутербродов
Реферат: Актуальные вопросы формирования запасов в организации
Реферат На Тему Культурное Пространство Человека В Современном Мире
Реферат: Расчет спутникового канала Алматы-Атырау
Реферат: Аспекты кибермаркетинга, проблематика, динамика развития и перспективы
Реферат по теме Скаутинг как воспитательная система: история, теория, практика
Вирусы И Борьба С Ними Реферат
Курсовая работа по теме Разработка базы данных для риэлтерской конторы
Дипломная работа по теме Процесс формирования педагогической культуры мастера профессионального обучения
Сочинение Мокрая Терраса Герасимов 6
Сочинение От Лица Земледельца 5 Класс История
Реферат по теме Перхлораты и их использование
Курсовая работа: Экономическая сущность основных фондов и оценка их эффективности
Сочинение Петербург Город Контрастов
Реферат: Объектно-Ориентированное программирование
Реферат На Тему Анализ Деловых Переговоров
Региональные И Местные Налоги Реферат
Реферат по теме История Алжира
Реферат по теме Развитие химической технологии на основе синтез-газа
Шпаргалка: Краткий словарь философских терминов
Курсовая работа: Федор Тютчев о назначении человека и смысле истории
Похожие работы на - Бeзoпасный дoступ из лoкальнoй сeти в Интeрнeт с испoльзoваниeм тeхнoлoгии 'Oткрытый Интeрнeт'
Реферат: Зброя й бойові формації