Химические способы очистки поверхностей полупроводниковых пластин

⚡⚡⚡ ПОДРОБНЕЕ ЖМИТЕ ЗДЕСЬ 👈🏻👈🏻👈🏻

от окислов
В настоящее время, в основном, используют химические способы удаления оксидных пленок с поверхности полупроводниковой пластины.
Химический способ удаления окислов с поверхности пластин состоит в том, что поверхность пластины предварительно обрабатывают активным реагентом, который, взаимодействуя с окислами, образует малорастворимые соединения.
Эти соединения легко удаляются промывкой, а затем поверхность пластины промывают водой и высушивают.
и материалов
Методы химической очистки (восстановления) поверхности полупроводникового материала с целью удаления оксидных пленок, остатков адгезионного и межфазного соединений, а также для получения тонких слоев металла на поверхности полупроводников.
Химическое восстановление поверхности твердого диэлектрика
Исследование структуры и свойств полупроводниковых материалов.
Изучение способов получения полупроводников на основе кремния и германия.
Характеристика процессов диффузии и легирования.
от дефектов и загрязнений
Изучение особенностей электрохимических процессов, происходящих на поверхности полупроводников при воздействии электрического тока.
Технология производства полупроводниковых приборов.
Химические способы и средства очистки поверхности полупроводниковых материалов
Определение состава, структуры и свойств полупроводникового кремния.
Характеристика методов изготовления, технологии восстановления и использования полупроводниковых структур.
приборов, деталей.
Характеристика методов: ультразвуковая обработка, электрохимическая обработка, лазерная очистка.
Химические методы очистки.
Ультразвуковая очистка
Классификация и характеристика видов загрязнений окружающей среды.
Основные методы защиты окружающей среды от загрязнений.
Анализ методов очистки сточных вод.
Механическая, биологическая и физико-химическая очистка сточных вод на примере предприятия.
курсовая работа, добавлен 08.05.2016
от оксидных пленок и загрязнений
Особенности химического воздействия на оксидные пленки и загрязнения.
Очистка поверхностей методом нейтрализации.
Использование различных окислителей и восстановителей.
Технология очистки с применением щелочи, перекиси водорода и кислородсодержащих газов
Характеристика процесса удаления оксидов азота из дымовых газов.
Преимущества и недостатки газоочистки с использованием адсорбционного и термического способов.
от примесей, например, от окислов.
Для очистки твердых поверхностей применяются химические методы, в которых используется воздействие на поверхность твердых веществ, обладающих достаточной химической активностью.
Наиболее часто для этой цели используются следующие методы:
термическая обработка;
химическая обработка;
механическая обработка.
и материалов для их изготовления.
Определение характеристик поверхностных слоев.
Изучение метода химического травления с помощью щелочного раствора.
Расчет параметров процесса химического осаждения
Получение кремния и германия из оксида.
Физические и химические свойства германия.
Выбор технологии получения германия.
Технология получения полупроводников германия.
Особенности технологии получения монокристаллов германия.
Метод химического осаждения.
реферат, добавлен 13.01.2011
Химические способы могут быть подразделены на две группы: 1) методы, в которых применяется растворитель для удаления органических веществ; 2) методы, при которых удаление органических веществ происходит в результате химической реакции.
В первой группе методов применяют следующие растворители:
а) моноэтаноламин (MEA);
б) этилендиамин (ED);
в) диэтиламиноэтанол (DMEA).
Химические способы очистки поверхности полупроводниковых приборов и устройств.
Очистка от оксидов на поверхности полупроводника.
Применение различных составов для очистки полупроводниковых материалов.
Метод электрохимической обработки, его достоинства и недостатки.
Для более экономного использования дискового пространства на сервере работы запакованы в zip-архивы.
При нанесении на поверхность полупроводниковой пластины электроизоляционных покрытий для защиты от окисления (при последующем использовании пластины в вакуумной установке) применяются различные химические составы, отличающиеся по составу и свойствам.
Выбор химического состава покрытия зависит от конкретных условий эксплуатации.
Большинство химических составов для нанесения покрытий на полупроводниковые пластины при их эксплуатации в вакууме или в воздушной среде имеют следующие характеристики:
Теория: Обучение, воспитание
Оценивание Контрольных Работ По Информатике
Дипломная Работа По Техносферной Безопасности