中共弯道超车仿制出EUV设备 遭荷兰媒体“打脸” 

北京当局砸钱招募荷兰ASML公司的几名前工程师，通过拆解旧设备进行逆向工程，仿制了一台极紫外光微影（EUV）设备，即宣称造出了自己的EUV原型机。不过荷兰媒体日前发文指出，中方并不具备相应的光学技术，其仿造的EUV设备其实无法真正造出高端芯片。

近日，中共一些有官方背景的媒体宣称，深圳一个研发团队“已经突破技术门槛”，打造出了“中国自己的EUV原型机”，并赞誉这项工程是所谓“中国版曼哈顿计划”的重大成果。这番宣传引起了荷兰业界的关注。

荷兰《电讯报》（De Telegraaf）日前发文指出，尽管中方宣称已成功复制ASML的EUV设备，但光学系统依然是中方最难以跨越的障碍。由于中方并未取得关键的光学技术，仅靠仿制的EUV设备造不出高端芯片，也撼动不了ASML在半导体领域的领军地位。

这篇报导直言不讳地指出，当今世界上所有新款手机与电脑设备中的高端芯片，毫无例外都是由 ASML的设备生产的，但这些设备如果没有顶尖的光学技术及系统的支持，根本无法运作。

报导介绍，ASML的设备能将芯片图案缩小到什么程度，很大程度上取决于光学系统提升解析度的能力。为了制造高端芯片，最先进的ASML曝光机使用了波长仅13.5奈米的极紫外光（EUV）。而独家向ASML提供相应的光学技术与系统支持的德国光学和光电子技术公司Carl Zeiss，从上世纪90年代开始就与ASML进行深度合作。在ASML决定为当时商业前景不明的EUV技术投入数亿欧元时，Carl Zeiss也义无反顾地加入其中。

Carl Zeiss半导体光学元件制造总裁亨舍（Christoph Hensche）对荷兰媒体回忆说：“我们共同经历了许多艰难时刻，特别是2008年金融海啸前后，但我们总能找到解决方案。”

他表示，德国式的“严谨”与 荷兰 ASML公司“务实”的文化互补得很好。

“ASML天生更愿意承担风险，而我们则倾向深入分析、稳扎稳打”，亨舍说，“但我们最终还是选择共同冒险，因为双方都知道，产品必须在正确的时间推向市场，通常是愈快愈好。”

报导称，ASML公司在2016年斥资10亿欧元，收购了Carl Zeiss半导体业务24.9%的股份。目前ASML第二代EUV曝光机的核心改进，也是依仗Carl Zeiss技术的持续突破，特别是提升光学系统的数值孔径（NA）。于此同时，ASML在光源、组件精度与系统设计上也投入了巨大的努力。

此前，路透社曾在本月17日的报导中援引知情人士的爆料透露，中共政府招募多名前荷兰半导体设备龙头艾司摩尔（ASML）前工程师，透过逆向工程的方式，在深圳一处高度戒备的实验室内，制造出了一台“极紫外光机”（EUV）的原型机。这套设备于2025年初完成并进入测试阶段。

该报导进一步透露，为了上述秘密工程，中方让上百名学习半导体专业的大学毕业生拆卸ASML的旧设备，任务完成就发奖金。目前中国的EUV原型机虽然能够产生极紫外光，但还不能实际生产出可用的芯片。

知情人士还透露，这项突破是中方耗时约六年的工程一直在高度保密下推动，由习近平的亲信，现任中共中央科技委员会主任的丁薛祥主导，华为在其中扮演关键协调角色。被重金招募参与其中的几名ASML前工程师，在实验场所都是使用的假名，他们多数是近期退休的具有中国背景的ASML前员工。

路透社的报导提到，中方的上述研发团队曾试图按照原尺寸来复制ASML的EUV设备，但没能成功，最后只好放大设备的体积规模来提升其功率，所以仿制的EUV设备形体比ASML的EUV设备大很多。目前中方最大瓶颈在于缺乏精密光学系统的支持。中方自行研发的替代方案，虽然让其仿制的EUV设备得以在2025年初启动测试，但其技术水平与欧洲的先进技术相比差距仍然很大。