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本产品为不锈钢腔体式微波等离子体设备，功率密度高；水冷式基片台和水冷式金属反映腔，保证系统能长时间稳定工作；基片温度以微波等离子体自加热方式达到；真空测量仪表采用全量程真空计，可**测量本底真空和工作气体压强；真空泵及阀门采用涡轮分子泵极限真空为×和旋片式机械真空泵极限真空为，系统可自动控制沉积气压；配备冷却水循环系统，确保装置高功率下可长时间**稳定运行；系统带寸触摸屏，自动控制，可设置温度或气压恒定，可保存复用多达套工艺文件；全自动工艺控制模块，可以稳定可靠地制备高品质金刚石薄膜和晶体技术指标与特性：
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