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离子束溅射设备还有两个功能是高频溅射设备所不具有的,第一,在薄膜淀积之前,可以使用辅助离子源产生的Ar+离子束对基片原位清洗,使基片达到原子级的清洁度,有利于薄膜层间的原子结合;另外,利用这个离子束对正在淀积的薄膜进行轰击,使薄膜内的原子迁移率增加,晶核规则化;当用氧离子或氮离子轰击正在生长的薄膜时,它比用气体分子更能有效地形成指定化学计量比的氧化物、氮化物。
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