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微流控芯片的光刻工艺流程如下: 1.仔细清洗基板; 2.在干净的基片表面镀上一层阻挡层,例如铬、二氧化硅、氮化硅等; 3.再用甩胶机在阻挡层上均匀地甩上一层几百A厚的光敏材料光刻胶。
将准备好的粘合剂静置5分钟,然后再次搅拌。
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如对信号进行放大、运算、滤波、线性化、数模(D/A)或模数(A/D)转换,转换成另一种参数信号或某种标准化的统一信号等,使其输出信号便于显示、记录,也可与计算机系统连接,以便对测量信号进行信息处理或用于系统的自动控制。
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