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离子束溅射薄膜技术和磁控溅射薄膜技术大致同期发展,但是直到美国卡夫曼等人发明了产生低能离子束的离子源,才使离子束溅射技术得到实际应用。
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它的计算方法是:其中,n为测量次数(一般n=10);xi为每次测试结果的典型值(一般为D50值);x为多次测试结果典型值的平均值;σ为标准差;δ为重复性相对误差。
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