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(2)该装置多在负压情况下配用,也可用在正压工况,负压时高位槽可不用通气源,正压时高位槽接通气源,调整好压力使高位糟及密封腔压力与釜内压力处于相等或高于釜内工作压力为好。

2、每平方米搪瓷反应釜搪瓷层上的杂粒不得超过3处,每处面积应小于4mm。

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