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对于离子束溅射技术和设备而言，离子束是从离子源等离子体中，通过离子光学系统引出离子形成的，靶和基片置放在远离等离子体的高真空环境内，离子束轰击靶，靶材原子溅射逸出，并在衬底基片上淀积成膜，这一过程没有等离子体恶劣环境影响，彻底克服了高频溅射技术制备薄膜的缺陷。

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